Samsung aikoo ottaa EUV-litografian laajamittaiseen käyttöön ensi vuonna D1a-prosessilla valmistettavien DDR5- ja LPDDR5-muistien myötä.

Muistipiirejä valmistetaan markkinoille parhaillaan lukuisilla eri prosesseilla. Alalla onkin käytäntönä ilmoittaa valmistusprosessi vain tiettynä luokkana. Esimerkiksi Samsungin ”10nm class” tarkoittaa mitä tahansa alle 20 nanometrin valmistusprosessia ja tässä tapauksessa tarkin nimi mitä yhtiö prosessilleen antaa on ”D1x”.

Nyt Samsung on ilmoittanut tuottaneensa ja toimittaneensa ensimmäiset miljoona D1x EUV -valmistusprosessilla tuotettua muistisirua asiakkailleen ja niiden nyt läpäisseen tarvittavat testit asiakkaiden käsissä. Kyse on maailman ensimmäisistä EUV-prosessilla tuotetuista DDR4-muisteista, mutta nyt kun ne ovat osoittautuneet toimiviksi myös asiakkaiden käsissä voidaan tuotantoa alkaa laajentamaan.

Yhtiön mukaan se tulee ottamaan EUV-valmistusprosessit laajempaan käyttöön seuraavan sukupolven D1a-prosessilla. Yhtiö myös paljasti poikkeuksellisesti, että D1a on erittäin kehittynyt versio 14 nanometrin prosessista. Prosessilla on tarkoitus valmistaa DDR5- ja LPDDR5-muisteja ja niiden massatuotannon odotetaan alkavan ensi vuoden aikana.

Lisäksi Samsung toisti jälleen kasvattavansa tuotantokapasiteettiaan avaamalla uuden tuotantolaitoksen Pyeongtaekissa Etelä-Koreassa kuluvan vuoden jälkimmäisen puoliskon aikana.

Lähde: Samsung

This site uses XenWord.