Intel kertoi lisää Intel 4 -prosessin yksityiskohdista

17.6.2022 - 08:05/ Petrus Laine Kommentit (0)

Prosessin kerrotaan tarjoavan 20 % parempaa suorituskykyä per watti ja jopa alle puoleen tippuvaa pinta-alaa Intel 7 -prosessiin verrattuna.

Lue lisää

Samsungin ensimmäiset EUV-valmistusprosessilla valmistetut DDR4-muistit läpäisivät asiakkaiden testit

25.3.2020 - 20:19/ Petrus Laine Kommentit (7)

Samsung aikoo ottaa EUV-litografian laajamittaiseen käyttöön ensi vuonna D1a-prosessilla valmistettavien DDR5- ja LPDDR5-muistien myötä.

Lue lisää

TSMC:n 5 nanometrin EUV-valmistusprosessin riskituotannon saannot ylittivät 50 %

9.12.2019 - 22:16/ Petrus Laine Kommentit (32)

Riskituotannossa olevan N5-prosessin 50 prosentin rajapyykin tässä vaiheessa ylittäneet saannot lupaavat hyvää yhtiön aikeille aloittaa massatuotanto prosessilla ensi vuoden ensimmäisellä puoliskolla.

Lue lisää

TSMC: 5 nanometrin N5 aikataulussaan, massatuotanto alkaa ensi vuoden ensimmäisellä puoliskolla

24.10.2019 - 22:57/ Petrus Laine Kommentit (23)

TSMC:n mukaan sen N5-prosessin saannot ovat jo nyt riskituotantovaiheessa hyvät.

Lue lisää

NVIDIA varmisti valmistuttavansa 7 nanometrin grafiikkapiirejä Samsungilla

2.7.2019 - 19:19/ Petrus Laine Kommentit (11)

Toistaiseksi ei ole tiedossa tuleeko NVIDIA valmistuttamaan Samsungilla kaikki 7 nanometrin grafiikkapiirinsä, vai vain osan niistä.

Lue lisää

Intel Investor Day 2019: 10 ja 7 nanometrin valmistusprosessit sekä Xe-laskentakortti palvelimiin

9.5.2019 - 21:05/ Petrus Laine Kommentit (19)

Intel tulee julkaisemaan 10 nanometrin valmistusprosessista kaksi päivitettyä versiota, mutta 7 nanometrin EUV-prosessin luvataan tulevan saataville jo 2021 samaan aikaan viimeisen parannellun 10 nm:n prosessin kanssa. Ensimmäinen 7 nanometrin tuote tulee olemaan palvelimiin suunnattu Xe-arkkitehtuuriin perustuva laskentakortti.

Lue lisää

Samsung ja TSMC saivat valmiiksi seuraavan sukupolven EUV-prosessien kehitystyöt

18.4.2019 - 12:36/ Petrus Laine Kommentit (18)

TSMC kertoo saaneensa valmiiksi uuden 6 nanometrin valmistusprosessin kehitystyön, kun Samsung nokittaa 5 nanometrillä. Samsung on lisäksi saanut oman 6 nanometrin prosessinsa jo askeleen pidemmälle ensimmäisen tape-outin muodossa.

Lue lisää

DigiTimes: TSMC aloittaa massatuotannon 7 nanometrin EUV-valmistusprosessilla maaliskuussa

12.2.2019 - 21:33/ Petrus Laine Kommentit (7)

TSMC:n tiedetään tuottaneen ensimmäiset 7 nm:n EUV-prosessia käyttävät piirit jo viime lokakuussa, mutta siitä huolimatta yhtiö on aikataulussaan jäljessä Samsungia, joka aloitti viime vuonna massatuotannon 7 nm:n EUV-prosessilla.

Lue lisää

Intel: 10 nanometrin prosessi huhtikuussa 2019, 7 nm:n EUV-prosessi aikataulussaan

7.12.2018 - 11:58/ Petrus Laine Kommentit (31)

Intelin mukaan 7 nanometrin prosessin kehitystyön takaa löytyy erillinen kehitysryhmä, jonka vuoksi 10 nanometrin myöhästelyt eivät ole päässeet vaikuttamaan sen aikatauluun merkittävästi.

Lue lisää

Samsung aloitti tuotannon 7 nanometrin EUV-valmistusprosessilla

18.10.2018 - 21:30/ Petrus Laine Kommentit (17)

Samsungin mukaan 7 nanometrin EUV-valmistusprosessi tarjoaa parhaimmillaan 40 % paremman transistoritiheyden ja 20 % paremman suorituskyvyn tai 50 % pienemmän tehonkulutuksen 10 nanometriin nähden.

Lue lisää

TSMC:ltä ensimmäinen 7 nanometrin EUV-prosessia käyttävä piiri

10.10.2018 - 23:20/ Petrus Laine Kommentit (14)

Yhtiön mukaan se on saanut ensimmäisen asiakaspiirin 7 nanometrin EUV-prosessilla tape-out-vaiheeseen ja uskoo voivansa aloittaa 5 nanometrin EUV-prosessin riskituotannon jo ensi keväänä.

Lue lisää

Intelin 10 nanometrin prosessi siirtyy ensi vuoteen, tänä vuonna julkaistaan Whiskey Lake ja Cascade Lake

27.4.2018 - 18:37/ Petrus Laine Kommentit (71)

Intelin 10 nanometrin valmistusprosessin saannot ovat edelleen niin heikolla tasolla, että yhtiö on siirtänyt massatuotannon aloituksen ensi vuoteen.

Lue lisää

Samsung esitteli ensi vuonna käyttöön otettavat 7 ja 11 nanometrin valmistusprosessit

11.9.2017 - 21:34/ Petrus Laine Kommentit (7)

Samsungin uusi 11 nanometrin prosessi on suunniteltu edullisille piireille ja 7 nanometrin prosessi tulee korvaamaan nykyisen 10 nm:n prosessin aivan terävimmässä kärjessä.

Lue lisää

GlobalFoundriesin 7 nanometrin LP-prosessista kolme sukupolvea, EUV mukana suunnitelmissa

5.7.2017 - 17:47/ Petrus Laine Kommentit (4)

GlobalFoundriesin 7LP- eli 7 nanometrin Leading Performance -prosessista on luvassa kolme sukupolvea, joista kahdessa hyödynnetään EUV-litografiaa. 7LP-prosessi on suunnattu etenkin korkean suorituskyvyn piirien kuten työpöytäprosessoreiden ja grafiikkapiirien tarpeisiin.

Lue lisää