Intelin mukaan 7 nanometrin prosessin kehitystyön takaa löytyy erillinen kehitysryhmä, jonka vuoksi 10 nanometrin myöhästelyt eivät ole päässeet vaikuttamaan sen aikatauluun merkittävästi.

Intelin piti alun perin tuoda 10 nanometrin prosessorit markkinoille jo vuonna 2016, mutta jatkuvien ongelmien vuoksi nykyinen aikataulu lupaa massatuotantoa uudella prosessilla vasta joskus ensi vuoden aikana. Nasdaqin sijoittajakonferenssissa yhtiö kuitenkin vakuuttaa, ettei ongelmilla ole ollut juurikaan vaikutusta tulevaan 7 nanometrin prosessiin.

Intelin insinöörijohtaja ja Technology, Systems Architecture and Client Groupin johtaja Venkata “Murthy” Renduchintala on kertonut sijoittajakonferenssin yhteydessä, että yhtiö tulee aloittamaan 10 nanometrin tuotannon ensi vuoden huhtikuussa ja sen saavan tuotteita markkinoille viimeistään ensi vuoden joulukaudelle. Ensimmäisenä markkinoille saapuvat kuluttajatuotteet, joiden jälkeen vuorossa ovat Xeon Scalable -prosessorit ja muut tuotekategoriat.

Renduchintalan mukaan 10 nanometrin myöhästelyt eivät käytännössä ole vaikuttaneet 7 nanometrin prosessin kehitykseen, vaan kyse on erillisestä kehitysryhmästä ja -työstä. Oppia 10 nanometrin virheistä on kuitenkin otettu, minkä johdosta Intel on muuttanut tavoitteitaan transistoritiheyden, suorituskyvyn ja tehonkulutuksen suhteen.

Intelin 7 nanometrin valmistusprosessi tulee hyödyntämään EUV- eli Extreme UltraViolet -litografiaa ja sen kerrotaan mahdollistavan jälleen noin kaksinkertaisen skaalauksen edeltävään prosessiin nähden. Näiden myötä Renduchintala uskoo yhtiön ottavan kiinni perinteisen Mooren Lain -oletuksia transistorimäärien kasvusta.

Lähde: SeekingAlpha

This site uses XenWord.