Intel: 10 nanometrin prosessi huhtikuussa 2019, 7 nm:n EUV-prosessi aikataulussaan
Intelin mukaan 7 nanometrin prosessin kehitystyön takaa löytyy erillinen kehitysryhmä, jonka vuoksi 10 nanometrin myöhästelyt eivät ole päässeet vaikuttamaan sen aikatauluun merkittävästi.
Samsung aloitti tuotannon 7 nanometrin EUV-valmistusprosessilla
Samsungin mukaan 7 nanometrin EUV-valmistusprosessi tarjoaa parhaimmillaan 40 % paremman transistoritiheyden ja 20 % paremman suorituskyvyn tai 50 % pienemmän tehonkulutuksen 10 nanometriin nähden.
TSMC:ltä ensimmäinen 7 nanometrin EUV-prosessia käyttävä piiri
Yhtiön mukaan se on saanut ensimmäisen asiakaspiirin 7 nanometrin EUV-prosessilla tape-out-vaiheeseen ja uskoo voivansa aloittaa 5 nanometrin EUV-prosessin riskituotannon jo ensi keväänä.
Kaikki AMD:n 7 nanometrin tuotteet tullaan valmistuttamaan TSMC:llä
GlobalFoundriesin peruutettua 7 nanometrin prosessinsa AMD vapautuu sopimuksistaan tuottaa mm. kaikki prosessorinsa ja APU-piirinsä GloFon tehtailla.
AMD Radeon Computexissa: Vega 56 Nano ja 7 nanometrin Vega työasemiin
Työasemiin ja palvelimiin suunnattu 7 nanometrin Vega 32 Gt:n HBM2-muistilla on maailman ensimmäinen 7 nanometrin prosesilla valmistettu grafiikkapiiri.
Intelin 10 nanometrin prosessi siirtyy ensi vuoteen, tänä vuonna julkaistaan Whiskey Lake ja Cascade Lake
Intelin 10 nanometrin valmistusprosessin saannot ovat edelleen niin heikolla tasolla, että yhtiö on siirtänyt massatuotannon aloituksen ensi vuoteen.
AMD päivitti 7 nanometrin kuulumisia: Vegat jo yhtiön käsissä, Epycit aikataulussa
AMD varmisti tulevansa valmistuttamaan 7 nanometrin Vegoja sekä GlobalFoundries:lla että TSMC:llä.
AMD:n Vega GPU valmistetaan myös TSMC:n 7 nanometrin prosessilla
AMD:n Vega-arkkitehtuuri saatetaan nähdä 7 nanometrin viivanleveydellä odotettua aikaisemmin TSMC:n valmistamana.
AMD keskittyy Vegalla koneoppimiseen ja hyppää 7 nanometriin
AMD kertoi päivitetyistä grafikkasuunnitelmistaan. Ei uusia pelinäytönohjaimia tänä vuonna.
Samsung esitteli ensi vuonna käyttöön otettavat 7 ja 11 nanometrin valmistusprosessit
Samsungin uusi 11 nanometrin prosessi on suunniteltu edullisille piireille ja 7 nanometrin prosessi tulee korvaamaan nykyisen 10 nm:n prosessin aivan terävimmässä kärjessä.
GlobalFoundriesin 7 nanometrin LP-prosessista kolme sukupolvea, EUV mukana suunnitelmissa
GlobalFoundriesin 7LP- eli 7 nanometrin Leading Performance -prosessista on luvassa kolme sukupolvea, joista kahdessa hyödynnetään EUV-litografiaa. 7LP-prosessi on suunnattu etenkin korkean suorituskyvyn piirien kuten työpöytäprosessoreiden ja grafiikkapiirien tarpeisiin.
GlobalFoundries: 7 nm:n prosessi aikataulussa, massatuotantoon jo ensi vuonna
GlobalFoundries lisensoi 14 nanometrin prosessin Samsungilta, hyppäsi yli 10 nanometrin ja aikoo hyökätä ensi vuonna etulinjaan itse kehittämällään 7 nm:n prosessilla.