Samsung esitteli ensi vuonna käyttöön otettavat 7 ja 11 nanometrin valmistusprosessit
Samsungin uusi 11 nanometrin prosessi on suunniteltu edullisille piireille ja 7 nanometrin prosessi tulee korvaamaan nykyisen 10 nm:n prosessin aivan terävimmässä kärjessä.
GlobalFoundriesin 7 nanometrin LP-prosessista kolme sukupolvea, EUV mukana suunnitelmissa
GlobalFoundriesin 7LP- eli 7 nanometrin Leading Performance -prosessista on luvassa kolme sukupolvea, joista kahdessa hyödynnetään EUV-litografiaa. 7LP-prosessi on suunnattu etenkin korkean suorituskyvyn piirien kuten työpöytäprosessoreiden ja grafiikkapiirien tarpeisiin.
GlobalFoundries: 7 nm:n prosessi aikataulussa, massatuotantoon jo ensi vuonna
GlobalFoundries lisensoi 14 nanometrin prosessin Samsungilta, hyppäsi yli 10 nanometrin ja aikoo hyökätä ensi vuonna etulinjaan itse kehittämällään 7 nm:n prosessilla.