Puolijohdevalmistus on TSMC:n dominoima ala, vaikka muitakin tekijöitä luonnollisesti löytyy. Käytännössä kaikille niistä on kuitenkin yhteistä yksi asia: riippuvuus ASML:n laitteista.
ASML on käytännössä valloittanut yksin puolijohdevalmistuksessa käytettävien litografialaitteiden huipun, vaikka Canon ja Nikonkin edelleen valmistavat ja myyvät omia laitteitaan. Nyt Canon on päättänyt nostaa päätään haastaakseen ASML:n tosissaan myös terävimmässä kärjessä.
Canon esitteli ensimmäisen ”nanoimprint lithography” eli NIL-laitteen viime vuoden lopulla ja kertoi sen voivan haastaa paitsi ASML:n kehittyneimmät DUV-, myös EUV-laitteet. Teknologian aika parrasvaloissa ei ala kuitenkaan aivan vielä, vaan tuoreimman tiedon mukaan Canon pääsee toimittamaan ensimmäiset laitteet asiakkailleen koekäyttöön vuoden loppupuolella tai ensi vuoden alkupuolella.
Canonin NIL-valotuslaitteiden yksi valttikortti on sen edullisuus. Nanoimprint-litografia perustuu täysin erilaiseen sirujen valmistukseen, kuin ASML:n DUV- ja EUV-laitteet. Sen sijasta, että piitä leikattaisiin laserin avulla, NIL-laite ”leimaa” sirun suoraan piille. Teknologian kerrotaan käyttävän jopa 90 % vähemmän energiaa kuin EUV:n ja olevan muutoinkin edullisempi. Tällä hetkellä Canon kertoo kykenevänsä valmistamaan sillä 5 nanometrin luokan siruja, mutta ajan myötä 2 nanometrin luokan pitäisi olla mahdollisuuksien rajoissa.
Oletettavasti juuri teknologian eri toimintatavan myötä sillä on myös rajoitteensa, sillä Canon ei usko sen syrjäyttävän perinteisiä laitteita, vaan yhtiö näkee sen asettuvan niiden rinnalle. Se uskoo myös esimerkiksi NAND-sirujen tuotannon olevan potentiaalinen käyttökohde teknologialle, mikäli se ei ota tuulta alleen perinteisten logiikkasirujen saralla.
Lähde: Tom’s Hardware
Erinomaista, että terävimmän huipputeknologian kehittäjien määrä kasvaa. Vaihtoehdot lisääntyvät, huolto- ja toimitusvarmuus paranevat, markkina toimii vakaammin ja maariskit vähenevät.