Intelin 10 nanometrin prosessi siirtyy ensi vuoteen, tänä vuonna julkaistaan Whiskey Lake ja Cascade Lake

Intelin Cannon Lake -arkkitehtuurin ja 10 nanometrin valmistusprosessin taival on ollut pitkä ja kivikkoinen. Alun perin vuonna 2016 julkaistavaksi tarkoitettu 10 nanometrin Cannon Lake on edelleen julkaisematta ja Intelin osavuosikatsauksessa asian tiimoilta saatiin lisää ikäviä uutisia.

Intel ilmoitti alkuvuodesta aloittaneensa ensimmäisten 10 nanometrin Cannon Lake -prosessoreiden toimitukset asiakkaille ja julkaisun oli määrä tapahtua vielä tämän vuoden aikana. Yhtiön ensimmäisen vuosineljänneksen osavuosikatsauksessa toimitusjohtaja Brian Krzanich kuitenkin kertoi, että 10 nanometrin prosessilla tuotetaan edelleen piirejä vain pienellä volyymillä ja heikkojen saantojen vuoksi massatuotannon aloittaminen on nyt siirretty vuoden jälkimmäiseltä puoliskolta vuodelle 2019.

Krzanichin mukaan yhtiö on onnistunut parantamaan 10 nanometrin prosessinsa saantoja jo merkittävästi, mutta niiden olevan edelleen niin huonolla tasolla, ettei massatuotanto ole taloudellisesti järkevää. Hän kuitenkin samalla tyynnytteli itse Cannon Lake -prosessoreiden olevan täysin toimivia sinänsä.

Yhdeksi syyksi Intelin ongelmille 10 nanometrin prosessin kanssa hän mainitsi erittäin kunnianhimoisen 2,7 kertoimen skaalauksen pienempään, kun esimerkiksi 14 nanometrillä vastaava kerroin oli vain 2,4 ja kilpailijoiden prosesseilla 1,5 – 2,0:n tasolla. Skaalauskertoimella Krzanich viittaa siihen, moniko kertaisesti esimerkiksi prosessoriydin pienenee edeltävään prosessiin nähden.

Sillä välin kun 10 nanometrin Cannon Lakeja saadaan odotella vielä ilmeisen pitkään, on tänä vuonna luvassa vielä kaksi uutta prosessoriarkkitehtuuria kuluttajamarkkinoille: Whiskey Lake ja Cascade Lake. Whiskey Laken voi olettaa olevan sivukanavahyökkäyksiltä suojattu versio nykyisestä Coffee Lake -arkkitehtuurista ja datakeskuksiinkin julkaistavan Cascade Laken tiedetään aiemman roadmap-vuodon perusteella olevan tuleva HEDT-arkkitehtuuri. Sekä Whiskey Lake että Cascade Lake valmistetaan 14 nanometrin valmistusprosessilla.

Krzanich kertoi lisäksi, että Intel tulee siirtymään 10 nanometristä suoraan EUV-prosesseihin (Extreme UltraViolet) 7 nanometrin myötä. Kilpailevat puolijohdevalmistajat ovat luvanneet siirtyvänsä EUV:n käyttöön toisen sukupolven 7 nanometrin valmistusprosessien myötä. Intel aikoo EUV:n lisäksi ottaa 10 nanometrin jälkeen käyttöön uuden tavan prosessoida piisiruja, joka mahdollistaa piirin eri osien valmistuttamisen eri valmistusprosesseilla 7 nanometristä aina 22 nanometriin saakka.

Lähde: Intel @ SeekingAlpha