ASML:n teknologiajohtaja maalaa synkkää kuvaa seuraavien sukupolvien tuotantoprosessien hinnoista
ASML:n mukaan EUV-skannereita seuraavat high-NA-skannerit tulevat nostamaan hintoja ja käyttökuluja merkittävästi ja niitä seuraavat saattavat olla jo liian kalliita toteuttaa paitsi tuotannon, myös itse skannereiden osalta.
Intel aikoo julkaista jatkossa uuden valmistusprosessin joka toinen vuosi
Intelin roadmap ulottuu vuoteen 2029 ja 1,4 nanometrin valmistusprosessiin asti.