GlobalFoundriesin 7LP- eli 7 nanometrin Leading Performance -prosessista on luvassa kolme sukupolvea, joista kahdessa hyödynnetään EUV-litografiaa. 7LP-prosessi on suunnattu etenkin korkean suorituskyvyn piirien kuten työpöytäprosessoreiden ja grafiikkapiirien tarpeisiin.

Uutisoimme aiemmin GlobalFoundriesin kertoneen yhtiön 7 nanometrin valmistusprosessin olevan aikataulussa ja sen riskituotannon alkavan jo ensi vuoden ensimmäisellä puoliskolla. Yhtiön suunnitelmien mukaan se tulee julkaisemaan yhteensä kolme sukupolvea 7 nanometrin Leading Performance- eli 7LP-prosessista.

Ensi vuonna käyttöön otettava 7LP-prosessi käyttää perinteista DUV- eli Deep UltraViolet -litografiaa. Sen on tarkoitus olla perinteinen uusi prosessi, joka parantaa prosessilla valmistettavien piirien suorituskykyä, vähentää tehontarvetta ja nostaa transistoritiheyden aiempaa korkeammaksi. Tämän hetkisten suunnitelmien mukaan prosessi tulee tarjoamaan yli 40 % parempaa suorituskykyä kuin 14LPP-prosessi samalla tehonkulutuksella tai vaihtoehtoisesti yli 60 % pienempää tehonkulutusta samalla suorituskyvyllä. Prosessi tulee mahdollistamaan yli 17 miljoonaa hilaa neliömilliä kohden ja maksimissaan 700 mm^2:n kokoiset piirit.

GlobalFoundriesin suunnitelmien mukaan se tulee päivittämään 7LP-prosessin käyttämään DUV-litografian lisäksi EUV- eli Extreme UltraViolet-litografiaa. EUV-litografiassa käytettävän valon aallonpituus on vaivaiset 13,5 nanometriä verrattuna 7LP:ssä käyettävän DUV-litografian 193 nanometrin aallonpituuteen. Aluksi EUV:ta on tarkoitus hyödyntää saantojen parantamiseen ja prosessin vaiheiden yksinkertaistamiseen. Päivitetyn prosessin ei odoteta tarjoavan tässä vaiheessa parannuksia piirien tehontarpeisiin, suorituskykyyn tai kokoon.

Mikäli kaikki menee suunnitelmien mukaan, tulee GloFo päivittämään 7LP-prosessia vielä toiseenkin kertaan kehittyneemmällä EUV-litografialla. Nimellisesti kolmannen sukupolven 7LP-prosessin odotetaan parantavan piirien suorituskykyä, pienentävän tehonkulutusta ja nostavan transistoritiheyttä, mutta GlobalFoundries ei lähde tässä vaiheessa arvioimaan kuinka suurista parannuksista on kyse.

GlobalFoundries ei ole valmis asettamaan vielä tarkkoja aikatauluja 7LP EUV -prosessien käyttöönotolle, mutta optimitilanteessa ensimmäisen sukupolven EUV otetaan käyttöön 2019 ja toisen sukupolven 2020. EUV-litografian käyttöönotossa on vielä useita selvitettäviä ongelmia, kuten käytettävien maskien kestävyys.

Lähde: AnandTech

This site uses XenWord.
;