Samsung aloitti tuotannon 7 nanometrin EUV-valmistusprosessilla

18.10.2018 - 21:30/ Petrus Laine Kommentit (17)

Samsungin mukaan 7 nanometrin EUV-valmistusprosessi tarjoaa parhaimmillaan 40 % paremman transistoritiheyden ja 20 % paremman suorituskyvyn tai 50 % pienemmän tehonkulutuksen 10 nanometriin nähden.

Lue lisää

TSMC:ltä ensimmäinen 7 nanometrin EUV-prosessia käyttävä piiri

10.10.2018 - 23:20/ Petrus Laine Kommentit (14)

Yhtiön mukaan se on saanut ensimmäisen asiakaspiirin 7 nanometrin EUV-prosessilla tape-out-vaiheeseen ja uskoo voivansa aloittaa 5 nanometrin EUV-prosessin riskituotannon jo ensi keväänä.

Lue lisää

Intelin 10 nanometrin prosessi siirtyy ensi vuoteen, tänä vuonna julkaistaan Whiskey Lake ja Cascade Lake

27.4.2018 - 18:37/ Petrus Laine Kommentit (72)

Intelin 10 nanometrin valmistusprosessin saannot ovat edelleen niin heikolla tasolla, että yhtiö on siirtänyt massatuotannon aloituksen ensi vuoteen.

Lue lisää

Samsung esitteli ensi vuonna käyttöön otettavat 7 ja 11 nanometrin valmistusprosessit

11.9.2017 - 21:34/ Petrus Laine Kommentit (7)

Samsungin uusi 11 nanometrin prosessi on suunniteltu edullisille piireille ja 7 nanometrin prosessi tulee korvaamaan nykyisen 10 nm:n prosessin aivan terävimmässä kärjessä.

Lue lisää

GlobalFoundriesin 7 nanometrin LP-prosessista kolme sukupolvea, EUV mukana suunnitelmissa

5.7.2017 - 17:47/ Petrus Laine Kommentit (4)

GlobalFoundriesin 7LP- eli 7 nanometrin Leading Performance -prosessista on luvassa kolme sukupolvea, joista kahdessa hyödynnetään EUV-litografiaa. 7LP-prosessi on suunnattu etenkin korkean suorituskyvyn piirien kuten työpöytäprosessoreiden ja grafiikkapiirien tarpeisiin.

Lue lisää